隨著納米技術已經在工業和學術活動越來越重要，亞微米特徵精確測量的需求正在日益增長。用於需要標準校準來達到更高精度的原子力顯微鏡（AFM）和掃描探針顯微鏡（SPM）計量工具。

SILIOS 技術在 AFMs 和 SPMs 二十納米水準下已經開發和發明專利標準校準垂直尺寸。同用於1 ~ 20 nm不同的步驟高地。校準標準可在一個單一標準下分開或聚集提供。

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階梯高度範圍
編碼：	階梯高度範圍3：
SIL0201 SIL0101 SIL0051 SIL0012	20nm 10nm 5nm 1nm
1可用 2發展中 3標稱值可能相差+/-2nm
偏差：
典型：+ / 1 nm 選項1：SILIOS認證（光學和機械測量） 選項2：認可實驗室認證（基於ISO5436）
技術參數
晶片尺寸： 有效面積： 材料： 週期： 認證：	5mm x 5mm x 0.5mm 1mm x 1mm SiO2 或 Si 5µm 經典或階梯
應用
原子力顯微鏡（AFM） 掃描探針顯微鏡（SPM）
視場
科學和工業計量
全晶片		標區域
光柵配置
經典