随着纳米技术已经在工业和学术活动越来越重要，亚微米特征精确测量的需求正在日益增长。用于需要标准校准来达到更高精度的原子力显微镜（AFM）和扫描探针显微镜（SPM）计量工具。

SILIOS 技术在 AFMs 和 SPMs 二十纳米水平下已经开发和发明专利标准校准垂直尺寸。同用于1 ~ 20 nm不同的步骤高地。校准标准可在一个单一标准下分开或聚集提供。

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阶梯高度范围
编码：	阶梯高度范围3：
SIL0201 SIL0101 SIL0051 SIL0012	20nm 10nm 5nm 1nm
1可用 2发展中 3标称值可能相差+/-2nm
偏差：
典型：+ / 1 nm 选项1：SILIOS认证（光学和机械测量） 选项2：认可实验室认证（基于ISO5436）
技术参数
芯片尺寸： 有效面积： 材料： 周期： 认证：	5mm x 5mm x 0.5mm 1mm x 1mm SiO2 或 Si 5µm 经典或阶梯
应用
原子力显微镜（AFM） 扫描探针显微镜（SPM）
视场
科学和工业计量
全晶片		标区域
光栅配置
经典